Nail Kashapov
Член-корреспондент Академии наук Республики Татарстан
Кашапов Наиль Фаикович
Родился в 1960 г. Член-корреспондент АН РТ (2008), доктор технических наук, профессор. Заслуженный изобретатель РТ. Заведующий кафедрой технологического оборудования медицинской и легкой промышленности КГТУ (КХТИ).
Н.Ф. Кашапов — специалист в области создания высокоэнергетических плазменных установок и технологий на их основе.
Основными направлениями научных исследований являются: физика низкотемпературной плазмы; ионно-плазменное формирование наноразмерных неоднородных поверхностных структур; композиционные материалы и покрытия; оборудование и технологии для энергетики, медицинской и легкой промышленности.
Проводимые Н.Ф.Кашаповым исследования связаны с разработкой мощных газоразрядных лазеров. Он установил механизм прилипательной неустойчивости тлеющего разряда (ТР) в смесях электроотрицательных газов, вывел обобщенный закон Геля для нормальной плотности тока ТР и предложил ряд технических решений, позволяющих повысить мощность непрерывного СО2 лазера. Это в дальнейшем позволило ему реализовать оптический разряд (ОР) с температурой плазмы ~ 18600 К. Сейчас он разрабатывает физическую и математическую модель данного типа разряда. Кроме того, им изучалось влияние параметров аномального ТР на свойства твердых тел. В частности, экспериментально исследованы свойства наноразмерных пленок (в том числе методом ЭПР) и установлена их зависимость от параметров разряда.
Параллельно Н.Ф.Кашапов вел исследования по созданию технологического оборудования для обработки поверхности твердых тел и нанесению покрытий с помощью струйных ВЧ-плазмотронов пониженного давления. Создал экспериментальную и теоретическую модель ВЧ разряда в совмещенном процессе обработки и нанесения покрытий с учетом области положительного заряда у поверхности твердого тела. Выявленные зависимости между входными параметрами установки и параметрами разряда указывают на возможность эффективной и достаточно простой регулировки характеристик струи ВЧ-разряда в условиях динамического вакуума. Определены оптимальный диапазон расхода плазмообразующего газа 0,06 — 0,12 г/с, мощность разряда 0,5–2,5 кВт и расстояние по оси потока плазмы от испаряемого материала l=170–250 мм, при которых степень ионизации максимальна, а радиальное распределение концентрации заряженных частиц наиболее однородно.
Автор 149 научных работ, в том числе 1 монографии.
Н.Ф.Кашапов — руководитель научно-педагогической школы «Плазменное нанесение покрытий». Им подготовлено 6 кандидатов наук. Является руководителем регионального научного семинара «Низкотемпературная плазма в процессах получения функциональных покрытий», одним из разработчиков новой инновационной образовательной модели — образовательного кластера школа — вуз — производство.
Н.Ф. Кашапов — член 2 советов по защите докторских диссертаций, член учебно-методического объединения физиков РТ.
тел. (843) 231-43-36
Е-mail:kashnail@mail.ru